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CPHI制藥在線 資訊 干貨!東陽(yáng)光藥業(yè)2016年以來(lái)重點(diǎn)專利布局分析

干貨!東陽(yáng)光藥業(yè)2016年以來(lái)重點(diǎn)專利布局分析

作者:Williamxiang  來(lái)源:藥智網(wǎng)
  2023-05-17
“產(chǎn)品未動(dòng),專利先行?!笔撬幤穼@季种械闹匾瓌t之一,對(duì)藥企重點(diǎn)專利布局情況分析,有助于了解其研發(fā)動(dòng)向與潛在的在研產(chǎn)品。通過調(diào)研發(fā)現(xiàn),近年來(lái)東陽(yáng)光藥業(yè)的新分子實(shí)體化合物專利與晶型專利均有較高的申請(qǐng)量。

       “產(chǎn)品未動(dòng),專利先行。”是藥品專利布局中的重要原則之一,對(duì)藥企重點(diǎn)專利布局情況分析,有助于了解其研發(fā)動(dòng)向與潛在的在研產(chǎn)品。

       通過調(diào)研發(fā)現(xiàn),近年來(lái)東陽(yáng)光藥業(yè)的新分子實(shí)體化合物專利與晶型專利均有較高的申請(qǐng)量,故筆者針對(duì)東陽(yáng)光藥業(yè)2016年以來(lái)重點(diǎn)專利布局開展分析。

       因申請(qǐng)量較大,本文提高了用于分析的專利納入標(biāo)準(zhǔn),如下所示:

       ①自主研發(fā)或受讓獲得權(quán)益的化合物(包括小分子與大分子)的外周專利,所述外周專利包括但不限于:已知化合物的新形式(包括晶型、鹽、溶劑合物)專利、制備方法專利、組合物專利、用途專利、質(zhì)量研究專利等;

       ②至少在歐洲、美國(guó)與日本一地提交同族專利申請(qǐng)的化合物專利。

       一、東陽(yáng)光藥業(yè)2016年以來(lái)申請(qǐng)的重點(diǎn)專利

       1.1外周專利

外周專利

       注:*未在歐洲、美國(guó)或日本提交同族專利申請(qǐng),其余化合物專利均在歐洲、美國(guó)與日本中的至少一地提交同族專利申請(qǐng)。

       #以“A”結(jié)尾的號(hào)碼為公開號(hào),表示該專利申請(qǐng)截至2022年11月10日尚未獲得授權(quán);其余為公告號(hào),表示該專利已獲授權(quán)。

       1.2重點(diǎn)化合物專利

重點(diǎn)化合物專利

       小     結(jié)

       2016年至今,東陽(yáng)光藥業(yè)在5-HT1F受體激動(dòng)劑(偏頭痛)、5-HT6受體拮抗劑(焦慮、抑郁等)、CRTH2受體拮抗劑(過敏性疾?。?、FXR調(diào)控劑(NASH)、HBV抑制劑、HCV抑制劑、HIF-抑制劑(貧血)、MAO-B抑制劑(帕金森)、SGLT抑制劑(糖尿?。?、SSRI/5-HT1A受體拮抗劑(抑郁癥)、美金剛長(zhǎng)效衍生物(阿爾茨海默氏?。?、食欲素受體拮抗劑(睡眠障礙)、受體酪氨酸激酶抑制劑(腫瘤)、纖維化抑制劑與鹽皮質(zhì)激素受體拮抗劑(醛甾酮過多癥)領(lǐng)域均有外周專利申請(qǐng),提示相關(guān)的化合物可能即將或已經(jīng)進(jìn)入非臨床或臨床研究,無(wú)論是靶點(diǎn)還是治療領(lǐng)域均呈現(xiàn)出高度的多元化特征。

       除了外周專利中涉及的化合物類別,2016年至今,東陽(yáng)光藥業(yè)的重點(diǎn)化合物專利還涉及A2A受體拮抗劑(帕金森綜合征)、ACC抑制劑(NASH等)、FGF21多肽(1型糖尿?。?、GnRH拮抗劑(性激素依賴性疾?。?、RET抑制劑(癌癥)、sGC刺激劑(心力衰竭等)、SSAO/VAP-1拮抗劑(炎癥性疾?。?、含免疫球蛋白Fc片斷的融合蛋白(2型糖尿?。?、抗TrkA抗體(疼痛)、流感病毒復(fù)制抑制劑、嵌合抗原受體(腫瘤),提示相關(guān)靶點(diǎn)或治療領(lǐng)域可能是東陽(yáng)光藥業(yè)近期重點(diǎn)的研發(fā)方向。

       注:同族專利數(shù)量只是專利質(zhì)量評(píng)價(jià)的一個(gè)方面,本文也發(fā)現(xiàn)部分有外周專利申請(qǐng)的化合物的化合物專利未在海外進(jìn)行申請(qǐng)。

       專利申請(qǐng)至公開的時(shí)間滯后性,導(dǎo)致無(wú)法判定近三年內(nèi)僅在中國(guó)申請(qǐng)的專利是否一定未在海外申請(qǐng),因此專利監(jiān)測(cè)與分析將是一個(gè)動(dòng)態(tài)而持續(xù)的過程。

       由于作者精力與能力的限制,也會(huì)導(dǎo)致一定的遺漏甚至錯(cuò)誤,還望廣大讀者朋友謹(jǐn)慎參考。

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