真理光學儀器有限公司專注于高端顆粒表征儀器的研發(fā)和制造，產(chǎn)品涵蓋激光（衍射法）粒度分析儀、動態(tài)光散射納米粒度及Zeta電位分析儀以及顆粒圖像分析儀，既有實驗室儀器，又有在線檢測系統(tǒng)。真理光學秉持“科學態(tài)度，工匠精神”，為用戶提供世界先進的高端產(chǎn)品和服務。
真理光學匯集了以張福根博士為代表的全國顆粒表征領域的優(yōu)秀人才。張福根博士現(xiàn)任本公司董事長兼首席科學家，還擔任全國顆粒表征及分檢與篩網(wǎng)標準化技術委員會副主任委員、天津大學兼職教授，曾擔任中國顆粒學會副理事長，同時也是“歐美克”字號公司的創(chuàng)始人。曾擔任英國某粒度儀器公司中國總經(jīng)理20余年的秦和義先生擔任本公司商務總經(jīng)理，中國顆粒學會青年理事潘林超博士、陳進博士擔綱公司的研發(fā)主力。
激光（衍射法）粒度儀雖然已得到廣泛應用，但還存在需要完善的地方，不論是科學基礎方面，還是技術方案方面。真理光學的團隊針對當前市面上儀器存在的不足，展開了系統(tǒng)的理論研究和技術創(chuàng)新，發(fā)現(xiàn)了衍射光斑（愛里斑）的反常變化現(xiàn)象（ACAD），解釋了為什么不能測量3μm左右的聚苯乙烯微球，并給出了反常區(qū)（不能測量粒徑）的一般公式；研究了衍射儀器的測量上限和下限；研究了顆粒折射率偏差對測量結果的影響，發(fā)明了兩種根據(jù)散射光分布估算顆粒折射率的方法;提出了斜置梯形窗口技術方案（專利），解決了前向超大角測量盲區(qū)的問題，使衍射儀器的亞微米顆粒測量水平顯著提高;提出了統(tǒng)一的反演算法（專有技術），消除了不同計算模式給出不同結果的尷尬；設計出了高達20Kfps的超高速并行數(shù)據(jù)采樣電路，使干法測量的精度不亞于濕法測量，對高速噴霧場的測量（時間）分辨率也更高。
在納米粒度及Zeta電位儀方面，真理光學提出了比相位分析法（PALS）更先進的余弦擬合相位分析法（CF-PALS），用光纖分束取代了傳統(tǒng)的平板分束鏡分束，用光纖內(nèi)光干涉取代了自由空間干涉，使Zeta電位的測量重復性大幅度提高。
真理光學致力于高端顆粒表征儀器的研制與制造，包括激光（衍射法）粒度分析儀、動態(tài)光散射納米粒度及Zeta電位分析儀、顆粒圖像分析儀，涵蓋實驗室設備和在線檢測系統(tǒng)。公司秉持“科學態(tài)度，工匠精神”，為用戶提供世界領先的產(chǎn)品與服務。團隊聚集了顆粒表征領域的杰出人才，以張福根博士為代表。張博士兼任董事主席兼首席科學家，同時擔任全國顆粒表征及分檢與篩網(wǎng)標準化技術委員會副主任委員、天津大學兼職教授，曾任中國顆粒學會副理事長，還是“歐美克”公司創(chuàng)始人。秦和義先生，曾擔任英國某粒度儀器公司中國總經(jīng)理20余年，現(xiàn)為商務總經(jīng)理。公司以豐富經(jīng)驗的團隊為支持，不斷推動顆粒表征技術創(chuàng)新。
公司在激光（衍射法）粒度儀領域深耕，針對現(xiàn)有儀器局限展開研究，提出了衍射光斑（愛里斑）的反常變化現(xiàn)象（ACAD），解釋了3μm左右聚苯乙烯微球不能測量的原因，發(fā)現(xiàn)了反常區(qū)（不能測量粒徑）的公式，研究了衍射儀器的測量上下限，探究了顆粒折射率偏差對結果影響，提出估算折射率的方法。公司還創(chuàng)新斜置梯形窗口技術解決大角測量盲區(qū)，提出統(tǒng)一的反演算法，設計高速數(shù)據(jù)采樣電路，提升亞微米顆粒測量水平，且在納米粒度及Zeta電位儀領域提出先進的余弦擬合相位分析法，以光纖取代傳統(tǒng)分束，使Zeta電位測量更穩(wěn)定。
公司融合科研與工匠精神，為顆粒表征領域帶來創(chuàng)新突破，助力科學發(fā)展。
